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高溫退火爐

目前國內高溫加熱大都為管式爐或馬弗爐,原理為加熱絲或硅碳棒對爐體加熱,加熱與降溫速度慢,效率低下,也無法實現溫度的高精度測量,加熱區域也存在不均勻的現象,華測儀器通過多年研究開發了一種可實現高精度,高反射率的拋物面與高質量的加熱源相配置,在高速加熱高速冷卻時,具有良好的溫度分布??蓪崿F寬域均熱區,高速加熱、高速冷卻,用石英管保護加熱式樣,無氣氛污染??稍诟哒婵?,高出純度氣體中加熱。設備可組成均熱高速加熱爐,溫度斜率爐,階段加熱爐。

它提高了加熱試驗能力。同電阻爐和其他爐相比,紅外線反射爐節省了升溫時間和保持時間及自然冷卻到室溫所需時間,再試驗中也可改寫設定溫度值。從各方面講,都節省時間并提高實驗速度。同高頻爐相比,不需特殊的安裝條件及對加熱試樣的要求。同電阻爐一樣安裝簡單,有冷卻系統安全可靠。以提高試驗人員的工作效率,實現全新的溫度控制操作!

目前電網中大量使用變頻器等高頻、高功率設備,將對電網造成諧波干擾。從而在高頻、弱信號測量過程中影響弱信號的采集,華測儀器公司推出的抗干擾模塊以及采用最新特殊參數分析技術,實現了高達120MHz的高頻測量,從而滿足了很多半導體,功能材料和納米器件的測試需求.

    設備優勢

  • 高速加熱與冷卻方式

    高能量的紅外燈和鍍金反射方式允許高速加熱到高溫。同時爐體可配置水冷系統,增設氣體冷卻裝置,可實現快速冷卻。

    溫度高精度控制

    近紅外鍍金聚焦爐和溫度控制器的組合使用,可以精確控制樣品的溫度(遠比普通加溫方式)。此外,冷卻速度和保持在任何溫度下可提供高精度。

    不同環境下的加熱與冷卻

    加熱/冷卻可用真空、氣氛環境、低溫(高純度惰性氣體 靜態或流動),操作簡單,使用石英玻璃制成。紅外線可傳送到加熱/冷卻室。

阻抗分析儀測量&高溫爐基本參數


說明:更詳細資料請翻閱阻抗分析儀詳細說明書,其它相關參數請聯系銷售工程師 。

更強大的操作軟件
高速升溫時,配套的快速反應的紅外線反射爐控制裝置,本控制裝 營采用可編程溫度控制器。高性能緊湊設計,響應速度愉。為了高速加熱設備采用PID溫度控制, 同時采用移相觸發技術保證試價溫度。
●據設備上的溫度控制器輸入參數, 您也可以簡單輸入濕度程序設定和外部信號。另外還可以在電腦上星示熱中的溫度數據。
●自適應熱電偶包括J、I、S、K、J、T、E、L、N、R、S、B、以及L、U、W型。
●最大可設定32個程序,256個步理的程序。
●30A.60A. 120A內置 TSCR電路所以范圍很廣。
●250mmWx 380mmDx157mmH小巧尺寸D設備配置。
不一樣的加溫方式及更多的應用場景


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