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高低溫冷熱臺

HCP650-PM是一款溫度范圍-190C~600C的溫控探針臺。使用時還可對樣品氣氛進行控制。這樣既可以保證,即使在極低溫度下,腔體也不產生結霜影響實驗,又可以防止樣品發生氧化。

此款溫控探針臺通過杠桿式支架,使用的是彎針探針。相比傳統的直針探針,這種設計不僅點針更準確,而且點針力度更大,和樣品的電接觸性更勝一籌。冷熱臺可配合KEITHLEY Keysight等國際品牌測量源表進行電學性能測量。

HCP650 PM可單獨使用,也可搭配顯微鏡/光譜儀使用。其可在-190°C ~ 600°C范圍內控溫,同時允許探針電測試、光學觀察和樣品氣體環境控制。探針臺上蓋與底殼構成一個氣密腔,可往內充入氮氣等保護氣體,來防止樣品在負溫下結霜,或高溫下氧化。

    設備優勢

  • 高速加熱與冷卻方式

    高能量的紅外燈和鍍金反射方式允許高速加熱到高溫。同時爐體可配置水冷系統,增設氣體冷卻裝置,可實現快速冷卻。

    溫度高精度控制

    近紅外鍍金聚焦爐和溫度控制器的組合使用,可以精確控制樣品的溫度(遠比普通加溫方式)。此外,冷卻速度和保持在任何溫度下可提供高精度。

    不同環境下的加熱與冷卻

    加熱/冷卻可用真空、氣氛環境、低溫(高純度惰性氣體 靜態或流動),操作簡單,使用石英玻璃制成。紅外線可傳送到加熱/冷卻室。

溫控&加熱參數

  • 溫度范圍: -190℃~600℃(負溫需配液氮割冷系統)

    傳感器/溫控方式:1000 RTD/ PID控制(含LVDC降噪電源)

    最大加熱制冷速度:+80Cmim (100℃時),-50C℃/min

    最小加熱/制冷速度:±0.01℃/min

    溫度分辨率: 0.01°C

    溫度穩定性: ±0.05℃ (>25℃),±0.1℃ (< 25℃)

    軟件功能:可設溫控速率,可設溫控程序,可記錄溫控曲線

    加熱區/祥品區: 28 mmx30mm

    樣品腔高:6.3 mm*樣品最大厚度由探針決定

    放樣:打開上蓋后置入樣品再點針,關上蓋后無法移動探針

    氣氛控制:氣密腔,可充入保護氣體

    外殼冷卻:可通循環水,以維持外亮溫度在常溫附近

    安裝方式:水平安裝或垂直安裝

    臺體尺寸/重量: 180 mmx130 mmx 26 mm/ 1500g

HCP650-PM可單獨使用,也可搭配顯微鏡/光譜儀使用。其可在-190°C ~ 600°C范圍內控溫,同時允許探針電測試、光學觀察和樣品氣體環境控制。探針臺上蓋與底殼構成一個氣密腔,可往內充入氮氣等保護氣體,來防止樣品在負溫下結霜, 或高溫下氧化。
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